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MICRO FAB

2006

Présentation

Le projet vise à développer les technologies de LIGA UV et de gravure ionique profonde (DRIE) sur silicium, afin de réaliser des pièces micromécaniques métalliques ou en silicium et des moules métalliques destinés à la fabrication de pièces plastiques.

Ces deux technologies mettent en œuvre la photolithographie pour une meilleure précision. Les facteurs de forme et les états de surface qui peuvent être obtenues par DRIE et LIGA UV sont bien adaptés aux pièces microtechniques visées par le programme (objectif : des épaisseurs d’au moins 300μm).

La réussite du projet permettra de proposer une alternative pour la réalisation de pièces de petites dimensions, en assurant une précision de l’ordre du micron et de bons états de surface. Les marchés visés sont celui de l’horlogerie, et de plus généralement celui des composants micromécaniques. Le mode de fabrication des pièces visées est collectif et adapté aux petites et moyennes séries qui caractérisent ces marchés.

Porteurs

IPV- CTMN Centre de Transfert en Micro Nanotechnique Centre de transfert en Micro Nanotechnique, Besançon (25).

Chiffres

Date de démarrage : 10/01/2006

Budget total : 367 788 €

Domaine d'application

Microfabrication, micromanipulation, microassemblage.

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